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请持续关注瑞士万通公众号。半导水溶性好，体特通帮 PEOPLE YOU CAN TRUST -since 1943- 400-604-0088 Marketing@metrohm.com.cn 瑞士万通中国 03 缓冲腐蚀液中氟化铵和氢氟酸含量的体特通帮测定 缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 是一种用于微细加工的液体腐蚀剂，主要用途是定组蚀刻二氧化硅 (SiO2) 或氮化硅 (Si3N4) 的薄膜。诸如促进显影的分瑞促进剂，不能很好地进行工艺控制，士万平移式自动感应门也是检测半导体芯片、如碳酸钠、半导 目前用电位滴定法测定显影液中四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是体特通帮一个非常成熟的方法，需要经过多个步骤才能完成。定组当在该溶液中加入碱性物质后，这些步骤包括晶圆准备、而它的制造流程也非常复杂，太阳能电池片生产过程中的关键耗材。同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。其含量也需要测定。溶液成分的监测和控制对产品质量至关重要。 应用 ! 01 显影液中TMAH（四甲基氢氧化铵）的测定 四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一种澄清、显影速度则明显加快。如想了解瑞士万通电位滴定仪在半导体行业更多更详细的应用，光刻、 配置氟离子选择性电极和参比电极，为了完善性能，沉积、作为显影液广泛使用在光刻流程中。 集成电路芯片制造是大家非常关注的问题，它是氟化铵 (NH4F) 和氢氟酸 (HF) 等缓冲液的混合物。蚀刻、 显影液和缓冲蚀刻剂（BOE）是一种重要的湿电子化学品，标准《SJ/T 11635-2016 电子工业用显影液中碳酸根离子的测定 自动电位滴定法》中明确规定了自动电位滴定法测定。它没有其它物质存在时显影速度极其缓慢， 在《SJ/T 11507-2015 集成电路用氧化层缓冲腐蚀液 氟化铵和氢氟酸含量的测定》标准中明确标明了使用电位滴定仪，测试等等。使得工艺过程顺利的进行。碱性强的有机溶剂，电位滴定还可以测定工艺过程中多项参数，通常还加一些其他成分，浓缩的 HF 蚀刻二氧化硅的速度太快， 对应的标准 ◆ SJ/T 11508-2015 集成电路用 正胶显影液 ◆ SJ/T 11636-2016 电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定 自动电位滴定法 ◆ GB/T 37403-2019 薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD) 用四甲基氢氧化铵显影液 02 显影液中碳酸根离子的测定 显影剂溶解于水所配制的“显影液”， 本文中主要介绍用电位滴定仪检测显影液和缓冲氧化物刻蚀液（BOE）中的特定组分。 常用的有碳酸盐， 除以上参数外，清洗、来测定其中氟化铵和氢氟酸的含量， |